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關鍵詞：MXene 漿料，MXene 漿料分散，超高壓納米均質機，高壓納米均質機

作為二維過渡金屬碳/氮化物的典型代表，MXene 憑借優異的導電性能、力學性能及電化學活性，在超級電容器、鋰離子電池、電磁屏蔽、催化等領域展現出廣闊的應用前景。然而，MXene 片層間存在強烈的范德華力，在漿料制備過程中極易發生堆疊團聚，不僅會降低其比表面積與活性位點暴露量，還會嚴重影響后續成型加工質量與產品性能。傳統制備方法如超聲分散、機械攪拌等，要么難以突破高濃度體系下的團聚壁壘，要么會造成 MXene 片層結構破壞，制約了其工業化應用進程。TRILOS 超高壓納米均質機憑借獨特的高壓腔室設計與精準的能量控制技術，成功實現了MXene 漿料的高效分散制備。

一、MXene 漿料制備的核心技術痛點

MXene 通常采用qfs刻蝕 MAX 相材料制得，初產物經洗滌、離心后得到的漿料濃度較低，需進一步濃縮才能滿足工業化生產對物料傳輸效率與加工成本的要求。但在濃縮過程中，隨著固含量提升，MXene 片層間距逐漸縮小，片層間的靜電引力與范德華力顯著增強，極易形成不可逆的團聚體。這種團聚體的存在會帶來多重問題：其一，團聚體內部的 MXene 片層無法充分與電解液或其它功能材料接觸，導致其導電、電化學等核心性能大幅衰減；其二，團聚的漿料流動性極差，難以通過涂覆、印刷等常規工藝成型，增加了后續加工難度；其三，傳統分散手段如高強度超聲，雖然能在一定程度上打破團聚，但會產生局部高溫與強剪切力，導致 MXene 片層邊緣斷裂、結構破損，破壞其本征性能。因此，實現高濃度下的高效分散，同時兼顧 MXene 片層結構完整性，成為制約其產業化發展的關鍵難題。

二、TRILOS超高壓納米均質機的原理和核心技術優勢

TRILOS超高壓納米均質機依靠強大壓力驅動和分散物料。物料在超高壓力下，經過分散單元的狹小縫隙，瞬間產生強大剪切力，將大顆粒物料裁剪成微小碎片。同時，物料高速流動相互撞擊，還會形成空穴效應。這些綜合作用，讓大小不一的顆粒被粉碎并均勻分散。

該設備不堵不漏，配備10寸工業觸控屏實時監控壓力曲線，至高壓力可達3000bar。

圖1 均質機原理圖

圖2 TRILOS超高壓納米均質機

TRILOS 超高壓納米均質機基于“超高壓空化+精準剪切+撞擊分散"的復合作用機理，能夠有效打破 MXene 片層間的團聚作用力；同時，漿料在分散腔室內發生高速剪切與撞擊，進一步將殘留的微小團聚體分散為單一片層或少量幾片的堆疊結構，且整個過程能量傳遞均勻，避免了局部過度剪切對 MXene 片層結構的破壞。

相較于傳統分散設備，TRILOS 超高壓納米均質機具有三大核心優勢，能夠適配高濃度 MXene 漿料的制備需求：

1.       超高壓力調節范圍：設備可實現 0-3000bar 的精準壓力控制，針對不同濃度的 MXene 漿料可靈活匹配至優壓力參數，既能保證團聚體分散，又能避免壓力過高導致的片層破損；

2.       高效的能量利用率：獨特的腔室結構使能量集中作用于物料分散過程，分散效率較超聲分散大幅提升，且能耗明顯降低，適合大規模工業化生產；

3.       穩定的連續化運行能力：連續運行時的物料處理量大，能夠滿足不同規模的生產需求，且分散效果一致性佳，有效避免了批次間的性能差異。

三、在MXene 漿料中的應用案例

以 Ti?AlC? 為原料，經qfs刻蝕制備初生態 MXene 漿料，將其濃縮后，采用 TRILOS 超高壓納米均質機進行分散處理，……（下載閱讀全文）